后腦勺有時候兩側(cè)燒痛，勞累時候更加明顯，

健康咨詢描述： 影像所見: 雙側(cè)額頂葉、左側(cè)顳葉白質(zhì)見多個斑點狀異常信號，T1WI呈稍低信號，T2WI/T2WIFLAIR呈稍高信號，DWI呈等信號，未見彌散受限，增強掃描未見強化；余腦實質(zhì)形態(tài)、 結(jié)構(gòu)正常，未見異常信號影；各腦室、腦池形態(tài)、大小正常，中線結(jié)構(gòu)未見移位。腦溝 和腦裂未見異常。顱骨未見異常信號影。雙側(cè)鼻竇及雙側(cè)乳突未見異常信號影。 SWI:雙側(cè)基底節(jié)區(qū)見對稱性斑點狀低信號影，相位圖呈高信號；余腦實質(zhì)未見異常 低信號影。 MRA:雙側(cè)頸內(nèi)動脈、椎基底動脈、大腦前、中、后動脈及其分支走行自然，管壁光 滑，未見擴(kuò)張、狹窄。 檢查方法:MR功能成像(MR)磁敏感加權(quán)成像（SWI），MR功能成像(MR)彌散成像(DWI)，顱腦(MR)血管成像增強，顱腦(MR)平掃增強3·0T 影像診斷: 1.雙側(cè)額頂葉、左側(cè)顳葉白質(zhì)異常信號影，考慮脫髓鞘病灶。 2.雙側(cè)基底節(jié)區(qū)低信號影，考慮鈣鹽沉積。 3.顱腦MRA未見異常。